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手机行业的pvd真空泵维修技术
pvd镀膜能够镀出的膜层种类,pvd镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜(如铝、钛、锆、铬等),氮化物膜(tin、zrn、crn、tialn)和碳化物膜(tic、ticn),以及氧化物膜(如tio等)。
pvd镀膜膜层的厚度—pvd镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.3μm～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3μm～1μm，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，镀后不须再加工。
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手机行业的pvd真空泵维修技术
pvd的意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。
pvd镀膜和pvd真空泵维修
pvd(物理气相沉积)镀膜技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜。对应于pvd技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机这三种。近十多年来，真空离子镀膜技术的发展是快的，它已经成为当今---的表面处理方式之一。我们通常所说的pvd镀膜，指的就是真空离子镀膜;通常所说的pvd真空泵维修，指的也就是真空离子镀膜机。
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真空泵维修的应用技术
用离子团束和高真空沉积技术研制了用于密度信息存储的有机和金属有机纳米薄膜，其中主要有两类：一类是银/有机（如ag－cpu）复合薄膜，用扫描隧道显微镜（stm）的电压脉冲写入信号斑直径为10nm，可以稳定地写入和读出0和1信号。
用半导体激光器薄膜读写装置（波长为780nm）研究了ag－cpu薄膜的光学存储特性，结果表明光脉冲10.4mw，宽10μs写入信号；7.0mw，宽1ms光脉冲可以擦除信号；1.1mw可以稳定读取信号。
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